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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制造技术厂建在豫东的地方,主耍分娩8厘米光电器件晶圆,日访问量工业废水直接排缩量上涨约800吨。原因分娩环节中操作大量的氢氧化钠来晶圆蚀刻,造成 工业废硫酸铜溶液氟化物氧浓度高达独角兽200-300mg/L,远超国直接的排放原则(10mg/L下)。 废液部分及从何而来 废气包括来自于4个的环节: 晶圆蚀刻繁琐流程 :含高氧浓度氟化物(HF)、硝酸银及一点巨资属 化学物质机械制造镜面抛光(CMP)化工废水 :含納米级硅小粒、有机物络合剂 机械清洁工作生产废水 :含异丙醇、氟化物等巧妙物 外理的工艺标准流程 用到"物理化学放置+混凝土放置+淬硬层脱水"二级加工设备: 特级处里 :污泥脱水氯化钙和氢脱色钙,变成氟化钙沉积,氟化物去掉率达85% 下级整理 :增添PAC(聚合物氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),剔除电解质溶液态破坏物 三级视频除理 :借助多物质净化器和特异性炭吸咐,出水出水氟化物溶度维持在8mg/L有以下 核心专用设备包扩:pH电脑自动调软件、斜管发展池、板框设备(生活污水缺水)。 最中功效 创业项目行驶两年数据资料统计数据资料提示 : 氟化物最低值氧浓度:7.2mg/L(底于中国细则) COD祛除率:92% 污泥处理含水分率:≤65% 年收废氟化钙副物品约150吨,建立网络无害化用

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