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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

活动经验 该半导体技术产生制造工厂公司地属豫东省市,其主要产生集成化电路原理加工器,日释放含氟工业废水外理约800吨。原因立即环境标准化从而提高,原先的加工设施管理尚未足够氟化物释放溶度小于5mg/L的新需求,工厂公司投资者1400万元新健技术专业含氟工业废水外理加工控制系统。 废液部分及主要来源 电镀废水注意渠道于集成块造成历程中的刻蚀流程和洁净流程,注意影响物属于: 氟化合物渗透压:300-800mg/L pH值:2- 具有刺激性少量出硅酸盐、聚磷酸盐 少量巨资属如铜、镍等 鑫霖环保技术步骤流程 运用"预进行解决+生物学放置+深入进行解决"乐队组合工艺设计: 上下调整池:均等化水质量储水量,设为pH上线监测方案 一层想法池:加药系统氢钝化钙,设定pH至7-8,形成了氟化钙水解 一层凝固池:凝固区分氟化钙废水 特殊不良反应池:加药氯化钙和聚合反应氯化铝,进每一步除掉稳定度氟铝离子 特殊积累池:四次积累脱离 砂滤装置:剔除悬屏物 活性酶类炭吸咐:彻底清除有机酸物和微量分析巨资属 淤泥除理平台:板框压滤甩干,淤泥含水分率降为60%下面的 既定效率 整体运转稳定的后,溢水土质: 氟阴离子氧化还原电位:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 天价属硫含量均如果低于查出限 全充分考虑《光学行业水污染源物进行水质标准化》(GB39731-2020)条件,次年降低氟化物进行排放量约180吨。

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